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会社沿革
事業展開 商品開発の歴史

1980年〜

1985年7月 (昭和60年) 神奈川県川崎市川崎区小田にファインセラミックス及びその応用加工品の製造・販売を主目的に、資本金560万円にて株式会社創造科学を設立
1986年9月 (昭和61年) セラミックス加工用網目柔構造砥石MCホイールの開発に成功
1989年4月 (平成1年) 資本金660万円に増資

1990年〜

1991年4月 (平成3年) 神奈川県川崎市川崎区新川通りに本社移転
1992年7月 (平成4年) 資本金1500万円に増資
1992年9月 (平成4年) プラズマエッチング装置向けシリコン電極加工用微細穴超音波加工機の開発に成功
1993年9月 (平成5年) 神奈川県川崎市宮前区宮崎に本社移転
神奈川県技術先端奨励補助金を受ける
1994年5月 (平成6年) 資本金2100万円に増資
1994年9月 (平成6年) マイクロマシニング向け微細穴超音波加工機の開発に成功
1995年3月 (平成7年) 神奈川県川崎市高津区下作延に本社移転
1995年4月 (平成7年) 東京大学生産技術研究所とマイクロマシニングに関して共同研究開始
1995年8月 (平成7年) 半導体製造装置向け静電チャックの量産を開始
1995年9月 (平成7年) イオン注入機向け部品の量産を開始
1996年10月 (平成8年) 高速温度制御静電チャックの開発に成功
1998年6月 (平成10年) ポリイミド型静電チャックの開発に成功
1999年12月 (平成11年) 300mm静電チャックの開発に成功

2000年〜

2000年1月 (平成12年) 宮崎県宮崎郡清武町加納3-12-2に九州営業所を開設
2000年7月 (平成12年) 商号を株式会社クリエイティブテクノロジーに改称
2000年12月 (平成12年) 資本金3000万円に増資
2001年1月 (平成13年) 宮崎県宮崎市大字本郷北方鵜戸尾2716-5に宮崎工場を開設
2002年8月 (平成14年) 神奈川県川崎市高津区上作延へ本社移転
2002年10月 (平成14年) G6-ODF装置用ポリイミド静電チャックの開発に成功
2003年5月 (平成15年) 溶射製品販売開始
2003年8月 (平成15年) プラズマエッチング装置導入
2004年3月 (平成16年) ISO9001(品質マネジメントシステム)認証取得
2004年10月 (平成16年) 本社を東京都千代田区麹町1-8-14麹町YKビル5Fに移転
2005年2月 (平成17年) 京都事務所を京都市下京区七条通新町西入夷之町686-3コタニビル5Fに開設
2005年8月 (平成17年) 宮崎工場を宮崎県宮崎郡清武町大字今泉丙1864-7に移転
2006年1月 (平成18年) 韓国に株式会社PMT (潟Nリエイティブテクノロジー100%出資)を設立
2006年3月 (平成18年) G8-LCDエッチャー用静電チャックの開発に成功
2006年4月 (平成18年) ISO14001(環境マネジメントシステム)認証取得
2006年10月 (平成18年) 京都事務所を京都工場として京都市伏見区横大路一本木21-7に移転
2006年11月 (平成18年) 日新イオン機器(株)純正イオン源部材(SOK)の 直接販売開始
2007年11月 (平成19年) 三重県四日市市に四日市営業所を開設
2008年6月 (平成20年) 中華民国 新竹に台湾事務所を開設
2009年3月 (平成21年) 台湾事務所を現地法人として設立

2010年〜

2010年5月 (平成22年) Ion Pad(貼合装置向け)販売開始
2010年12月 (平成22年) アメリカ事務所を現地法人として設立
2011年3月 (平成23年)  熊本営業所を開設
2013年2月 (平成25年) 静電チャック制御電源販売開始
2013年4月 (平成25年)  シンガポール事務所を現地法人として設立 
2014年1月 (平成26年)  中部支店を開設 
2014年3月 (平成26年) 挿入型静電容量センサ販売開始
2014年9月 (平成26年)  本社を 神奈川県川崎市高津区上作延507-1 に移転 
2015年4月 (平成27年)  台湾支社移転 
2016年3月 (平成28年)  シンガポール支社移転