会社沿革

1980年〜

1985年7月 (昭和60年) 神奈川県川崎市川崎区小田にファインセラミックス及びその応用加工品の製造・販売を主目的に、資本金560万円にて株式会社創造科学を設立
1986年9月 (昭和61年) セラミックス加工用網目柔構造砥石MCホイールの開発に成功
1989年4月 (平成1年) 資本金660万円に増資

1990年〜

1991年4月 (平成3年) 神奈川県川崎市川崎区新川通りに本社移転
1992年7月 (平成4年) 資本金1500万円に増資
1992年9月 (平成4年) プラズマエッチング装置向けシリコン電極加工用微細穴超音波加工機の開発に成功
1993年9月 (平成5年) 神奈川県川崎市宮前区宮崎に本社移転
神奈川県技術先端奨励補助金を受ける
1994年5月 (平成6年) 資本金2100万円に増資
1994年9月 (平成6年) マイクロマシニング向け微細穴超音波加工機の開発に成功
1995年3月 (平成7年) 神奈川県川崎市高津区下作延に本社移転
1995年4月 (平成7年) 東京大学生産技術研究所とマイクロマシニングに関して共同研究開始
1995年8月 (平成7年) 半導体製造装置向け静電チャックの量産を開始
1995年9月 (平成7年) イオン注入機向け部品の量産を開始
1996年10月 (平成8年) 高速温度制御静電チャックの開発に成功
1998年6月 (平成10年) ポリイミド型静電チャックの開発に成功
1999年12月 (平成11年) 300mm静電チャックの開発に成功

2010年〜

2010年5月 (平成22年) Ion Pad(貼合装置向け)販売開始
2010年12月 (平成22年) アメリカ事務所を現地法人として設立
2011年3月 (平成23年) 熊本営業所を開設
2013年2月 (平成25年) 静電チャック制御電源販売開始
2013年4月 (平成25年) シンガポール事務所を現地法人として設立
2014年1月 (平成26年) 中部支店を開設
2014年3月 (平成26年) 挿入型静電容量センサ販売開始
2014年9月 (平成26年) 本社を 神奈川県川崎市高津区上作延507-1 に移転
2015年4月 (平成27年) 台湾支社移転
2016年3月 (平成28年) シンガポール支社移転